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株式会社日立製作所は、このたび、シンガポールの研究機関であるInstitute of High Performance Computingと共同で、電子機器の配線に用いる金属と、その被覆材である樹脂との接着面がはがれる様子を可視化する、ナノメートル(100万分の1ミリメートル)の精度を持つ分子シミュレーション技術を開発した。 株式会社日立製作所(執行役社長:古川 一夫/以下、日立)は、このたび、シンガポールの研究機関であるInstitute of High Performance Computing (以下、IHPC)[*1]と共同で、電子機器の配線に用いる金属と、その被覆材である樹脂との接着面がはがれる様子を可視化する、ナノメートル(100万分の1ミリメートル)の精度を持つ分子シミュレーション技術を開発しました。 本技術は、金属と樹脂の接着面に力が加わることによってはがれる様子を、金属と樹脂のそれぞれの原子間に作用するバネのモデルに置き換えてシミュレーションを行うことで、計算に必要な時間を大幅に短縮し、接着特性を精度良く求める技術です。 (後略) [引用元:NIKKEI NET 2008/12/02]